德国optris Xi 1M ETH 紧凑型工业自主短波红外热像仪

Optris Xi 1M 是一款短波红外热像仪，擅长对具有挑战性的物体进行非接触热成像。它能够精确测量热金属、钢铁、陶瓷和半导体的表面温度。凭借自主热测量能力和电动对焦功能，该热像仪在工业环境中提供了可靠性和便利性，无需额外的硬件。它配备了以太网、USB 接口，以及模拟和数字过程接口，实现了与控制系统和机械设备的无缝集成。 工业以太网短波红外热像仪 宽测量范围从 450°C 到 1800°C，无需子范围 尺寸小且坚固，配备电动对焦 高动态 CMOS 探测器，分辨率为 396 x 300 像素 自主运行，带自动热点查找和直接模拟或报警输出，并具有多种现场总线通信选项

Optris Xi 1M 是一款短波红外热像仪，在非接触热成像领域提供了创新、经济实惠和高精度的性能，专门用于测量具有挑战性的物体表面温度。设计在短波红外范围内工作（波长：0.85 – 1.1 μm），这款前视红外热像仪专为捕捉热钢、铁、黄铜、铜、锡、碳、陶瓷和半导体的精确表面温度分析而设计。为了满足各行业的严格要求，Optris Xi 1M 提供了宽广的高温测量范围、卓越的准确性和可定制的视场配置。 许多由非光亮材料组成的测量物体在长波红外光谱范围内显示出较高且相对恒定的发射率，而这些材料在长波红外波段的低发射率会导致测量结果的不稳定和不可靠。短波 Xi 1M 红外热像仪的光谱范围与大多数金属材料的最高发射率相匹配，从而简化了远程温度测量。此外，根据普朗克辐射定律，在短波范围内发射的红外辐射显著增加，因此线性发射率问题对短波温度测量结果的重复性影响较小。因此，在考虑到较高的温度测量范围时，对高温光亮材料的非接触温度测量应尽可能使用短波段。 这些红外热像仪能够自主寻找热热点，增强了在各种监控和检查任务中的实用性和效率。Xi 1M 红外热像仪专为这些具有挑战性的工业应用设计和制造，在精度、准确性和重复性方面优于长波红外热像仪。

型号 Xi1M 7°x5° Xi1M 14°x10° Xi1M 28°x21° Xi1M 7°x5° CF